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第一章 半導(dǎo)體、光伏產(chǎn)業(yè)用高純硅烷概述 16
1.1 高純硅烷簡(jiǎn)介 16
1.2 高純硅烷的主要基本性能與質(zhì)量指標(biāo) 17
1.3 高純硅烷的主要應(yīng)用領(lǐng)域 18
1.4 高純硅烷在發(fā)展我國(guó)電子工業(yè)中的重要作用 19
第二章 電子特種氣體及其應(yīng)用市場(chǎng) 20
2.1 電子特種氣體概述 20
2.2 電子特種氣體制造中的主要技術(shù)方面 21
2.3 電子特種氣體的純凈度要求 23
2.4 電子特種氣體產(chǎn)品市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的焦點(diǎn)問題 25
2.4.1 對(duì)電子特種氣體雜質(zhì)、純度要求的問題 25
 2.4.2 氣體配送及供應(yīng)問題 26
2.4.3 儲(chǔ)存、使用中的安全性問題 27
2.4.4 成本性問題 28
2.5 國(guó)內(nèi)外電子特種氣體行業(yè)發(fā)展概述 29
2.5.1 境外電子特種氣體生產(chǎn)與市場(chǎng)情況 29
2.5.2 國(guó)內(nèi)電子特種氣體行業(yè)及其發(fā)展 30
第三章 高純硅烷氣體性能指標(biāo)及制備、凈化的工藝路線 33
3.1 高純硅烷的性能指標(biāo) 33
3.2 高純硅烷工業(yè)化制備的典型工藝路線 34
3.2.1 制備工藝法概述 34
3.2.2 硅化鎂合金法制備硅烷 34
3.2.2.1 工藝過程 34
3.2.2.2 主要反應(yīng) 36
3.2.2.3 工藝特點(diǎn) 36
3.2.2.4 工藝法存在的問題 37
3.2.3 三氯氫硅還原法制備硅烷 37
3.2.3.1 工藝過程 37
3.2.3.2 主要反應(yīng) 39
3.2.3.3 工藝特點(diǎn) 39
3.2.3.4 工藝法存在的問題 40
3.2.4 四氟化硅還原法制備硅烷 41
3.2.4.1 工藝過程 41
3.2.4.2 主要反應(yīng) 41
3.2.4.3 工藝特點(diǎn) 41
3.2.4.4 工藝法存在的問題 42
3.2.5 氯硅烷歧化法制備硅烷 42
3.2.5.1 工藝過程 42
3.2.5.2 主要反應(yīng) 42
3.2.5.3 工藝特點(diǎn) 42
3.2.5.4 工藝法存在的問題 43
3.2.6 烷氧基硅烷歧化法 43
3.2.6.1 工藝過程 43
3.2.6.2 主要反應(yīng) 44
3.2.6.3 工藝特點(diǎn) 44
3.2.6.4 工藝法存在的問題 44
3.3 高純硅烷氣體的凈化工藝路線 45
3.3.1 氣體的凈化方法概述 45
3.3.2 高純硅烷的凈化過程 45
3.4 工業(yè)高純硅烷氣體的包裝及貯運(yùn) 46
第四章 國(guó)內(nèi)外高純硅烷生產(chǎn)與主要企業(yè)現(xiàn)況 47
4.1 世界高純硅烷產(chǎn)銷、市場(chǎng)規(guī)模的概況 47
4.2 國(guó)外高純硅烷主要生產(chǎn)企業(yè)產(chǎn)銷情況 47
4.3 國(guó)外高純硅烷主要生產(chǎn)企業(yè)簡(jiǎn)況 48
4.3.1 REC Silicon公司 48
4.3.2 Dowcorning公司 51
4.3.3 SODIFF新素材有限公司 54
4.3.4 MEMC公司 57
4.3.5 Air Liquid公司 60
4.3.6 日本電氣工業(yè)公司 64
4.3.7 大陽(yáng)日酸公司 67
4.3.8 Evonik Industries公司 70
4.4 國(guó)內(nèi)硅烷業(yè)的發(fā)展概述 72
4.4.1 我國(guó)高純硅烷業(yè)發(fā)展的概述 72
4.4.2 我國(guó)硅烷研發(fā)、生產(chǎn)的歷史 74
4.5 國(guó)內(nèi)高純硅烷生產(chǎn)企業(yè)現(xiàn)況 75
4.5.1 國(guó)內(nèi)高純硅烷生產(chǎn)企業(yè)總述 75
4.5.2 浙江中寧硅業(yè)有限公司 75
4.5.3 浙江賽林硅業(yè)有限公司 81
4.5.4 滁州市硅谷特種氣體有限公司 88
4.5.5 六九硅業(yè)有限公司 95
4.5.6 浙江金華美晶硅電子有限公司 102
4.5.7 黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司 108
4.5.8 深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司 115
第五章 高純硅烷主要應(yīng)用領(lǐng)域的概述 122
5.1 高純硅烷在集成電路中的應(yīng)用 122
5.1.1 集成電路芯片制程 122
5.1.2 化學(xué)氣相沉積和氣體應(yīng)用 122
5.1.3 高純硅烷在化學(xué)氣相沉積中作為氣源形成的薄膜 131
5.2 高純硅烷在薄膜硅太陽(yáng)電池中的應(yīng)用 132
5.2.1 非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池 132
5.2.2 Si薄膜的材料特性 132
5.2.3 非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池制作工藝及高純硅烷其應(yīng)用 136
5.3 高純硅烷在液晶顯示器中的應(yīng)用 138
5.3 高純硅烷在液晶顯示器中的應(yīng)用 139
5.4 高純硅烷在其它領(lǐng)域的應(yīng)用 139
5.4.1 在特種玻璃制造中的應(yīng)用 139
5.4.2 在電子部件制造中的應(yīng)用 140
5.4.3 在化合物半導(dǎo)體材料制造中的應(yīng)用 140
5.5 高純硅烷在電子信息產(chǎn)品中應(yīng)用市場(chǎng)需求量的測(cè)算 141
第六章 高純硅烷主要應(yīng)用市場(chǎng)之一—集成電路產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì) 143
6.1 世界半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)與市場(chǎng)發(fā)展 143
6.1.1 世界半導(dǎo)體生產(chǎn)的現(xiàn)況 143
6.1.2 世界半導(dǎo)體硅片的生產(chǎn)狀況 145
6.2 我國(guó)半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)與市場(chǎng)現(xiàn)況與發(fā)展 145
6.2.1 我國(guó)集成電路市場(chǎng)、產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀 145
6.2.2 我國(guó)集成電路晶圓制造業(yè)情況 153
第七章 高純硅烷主要應(yīng)用市場(chǎng)之二 —薄膜太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì) 154
7.1 國(guó)內(nèi)外光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展 154
7.1.1 世界光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展 154
7.1.2 我國(guó)光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境與現(xiàn)況 155
7.2 薄膜太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)與市場(chǎng) 163
7.2.1 薄膜太陽(yáng)能電池特點(diǎn)及品種 163
7.2.2 薄膜太陽(yáng)能電池未來(lái)市場(chǎng)發(fā)展前景 171
7.2.3 薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)及在光伏市場(chǎng)上的份額變化 174
7.3 國(guó)內(nèi)外薄膜太陽(yáng)能電池的主要生產(chǎn)企業(yè) 175
第八章 高純硅烷主要應(yīng)用市場(chǎng)之三 —液晶顯示器產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢(shì) 180
8.1 世界平板顯示器產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)況 180
8.2 我國(guó)平板顯示器產(chǎn)業(yè)現(xiàn)況與未來(lái)發(fā)展預(yù)測(cè) 181
8.2.1 我國(guó)液晶顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述 181
8.2.2 我國(guó)LCD面板生產(chǎn)現(xiàn)況與未來(lái)幾年發(fā)展預(yù)測(cè) 183
8.2.3 我國(guó)發(fā)展平板顯示產(chǎn)業(yè)的相關(guān)政策及未來(lái)發(fā)展的預(yù)測(cè)、分析 185
圖表目錄
圖表 1 硅烷性能比較 18
圖表 2 氣體按其特性分類圖 21
圖表 3 雜質(zhì)對(duì)硅低溫選擇性外延沉積的影響 24
圖表 4 露點(diǎn)與集成度的關(guān)系 25
圖表 5 微粒直徑與集成度的關(guān)系 25
圖表 6 特殊氣體供應(yīng)流程圖 27
圖表 7 硅烷的性能指標(biāo) 33
圖表 8 氫化鋰還原三氯氫硅制備硅烷工藝流程圖 38
圖表 9 2020-2024年世界高純硅烷產(chǎn)銷分析 47
圖表 10 2020-2024年世界高純硅烷市場(chǎng)規(guī)模分析 47
圖表 11 2024年國(guó)外高純硅烷主要生產(chǎn)企業(yè)產(chǎn)銷情況 47
圖表 12  近4年REC Silicon公司   流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 48
圖表 13  近4年REC Silicon公司   總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 49
圖表 14  近4年REC Silicon公司   銷售毛利率變化情況 49
圖表 15  近4年REC Silicon公司   資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 49
圖表 16  近4年REC Silicon公司   產(chǎn)權(quán)比率變化情況 50
圖表 17  近4年REC Silicon公司   固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 50
圖表 18  近4年Dowcorning公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 52
圖表 19  近4年Dowcorning公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 52
圖表 20  近4年Dowcorning公司銷售毛利率變化情況 52
圖表 21  近4年Dowcorning公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 53
圖表 22  近4年Dowcorning公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 53
圖表 23  近4年Dowcorning公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 54
圖表 24  近4年SODIFF新素材有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 55
圖表 25  近4年SODIFF新素材有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 55
圖表 26  近4年SODIFF新素材有限公司銷售毛利率變化情況 55
圖表 27  近4年SODIFF新素材有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 56
圖表 28  近4年SODIFF新素材有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 56
圖表 29  近4年SODIFF新素材有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 57
圖表 30  近4年MEMC公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 58
圖表 31  近4年MEMC公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 58
圖表 32  近4年MEMC公司銷售毛利率變化情況 59
圖表 33  近4年MEMC公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 59
圖表 34  近4年MEMC公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 59
圖表 35  近4年MEMC公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 60
圖表 36  近4年Air Liquid公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 61
圖表 37  近4年Air Liquid公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 62
圖表 38  近4年Air Liquid公司銷售毛利率變化情況 62
圖表 39  近4年Air Liquid公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 63
圖表 40  近4年Air Liquid公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 63
圖表 41  近4年Air Liquid公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 63
圖表 42  近4年日本電氣工業(yè)公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 64
圖表 43  近4年日本電氣工業(yè)公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 65
圖表 44  近4年日本電氣工業(yè)公司銷售毛利率變化情況 65
圖表 45  近4年日本電氣工業(yè)公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 65
圖表 46  近4年日本電氣工業(yè)公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 66
圖表 47  近4年日本電氣工業(yè)公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 66
圖表 48  近4年大陽(yáng)日酸公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 67
圖表 49  近4年大陽(yáng)日酸公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 67
圖表 50  近4年大陽(yáng)日酸公司銷售毛利率變化情況 68
圖表 51  近4年大陽(yáng)日酸公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 68
圖表 52  近4年大陽(yáng)日酸公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 69
圖表 53  近4年大陽(yáng)日酸公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 69
圖表 54  近4年Evonik Industries公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 70
圖表 55  近4年Evonik Industries公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 70
圖表 56  近4年Evonik Industries公司銷售毛利率變化情況 71
圖表 57  近4年Evonik Industries公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 71
圖表 58  近4年Evonik Industries公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 72
圖表 59  近4年Evonik Industries公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 72
圖表 60 2020-2024年國(guó)內(nèi)高純硅烷生產(chǎn)分析 75
圖表 61  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 76
圖表 62  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 76
圖表 63  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 76
圖表 64  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 77
圖表 65  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 77
圖表 66  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 78
圖表 67  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 78
圖表 68  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 79
圖表 69  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 79
圖表 70  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 79
圖表 71  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 80
圖表 72  近4年浙江中寧硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 80
圖表 73  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 82
圖表 74  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 82
圖表 75  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 83
圖表 76  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 83
圖表 77  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 84
圖表 78  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 84
圖表 79  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 85
圖表 80  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 85
圖表 81  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 86
圖表 82  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 86
圖表 83  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 87
圖表 84  近4年浙江賽林硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 87
圖表 85  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 89
圖表 86  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 89
圖表 87  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 90
圖表 88  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 90
圖表 89  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司銷售毛利率變化情況 91
圖表 90  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司銷售毛利率變化情況 91
圖表 91  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 92
圖表 92  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 92
圖表 93  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 93
圖表 94  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 93
圖表 95  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 94
圖表 96  近4年滁州市硅谷特種氣體有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 94
圖表 97  近4年六九硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 96
圖表 98  近4年六九硅業(yè)有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 96
圖表 99  近4年六九硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 97
圖表 100  近4年六九硅業(yè)有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 97
圖表 101  近4年六九硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 98
圖表 102  近4年六九硅業(yè)有限公司銷售毛利率變化情況 98
圖表 103  近4年六九硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 99
圖表 104  近4年六九硅業(yè)有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 99
圖表 105  近4年六九硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 100
圖表 106  近4年六九硅業(yè)有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 100
圖表 107  近4年六九硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 101
圖表 108  近4年六九硅業(yè)有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 101
圖表 109  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 102
圖表 110  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 103
圖表 111  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 103
圖表 112  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 103
圖表 113  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司銷售毛利率變化情況 104
圖表 114  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司銷售毛利率變化情況 104
圖表 115  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 105
圖表 116  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 105
圖表 117  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 106
圖表 118  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 106
圖表 119  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 107
圖表 120  近4年浙江金華美晶硅電子有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 107
圖表 121  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 109
圖表 122  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 109
圖表 123  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 110
圖表 124  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 110
圖表 125  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司銷售毛利率變化情況 111
圖表 126  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司銷售毛利率變化情況 111
圖表 127  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 112
圖表 128  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 112
圖表 129  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 113
圖表 130  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 113
圖表 131  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 114
圖表 132  近4年黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 114
圖表 133  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 116
圖表 134  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司固定資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)情況 116
圖表 135  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 116
圖表 136  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司流動(dòng)資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 117
圖表 137  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司銷售毛利率變化情況 117
圖表 138  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司銷售毛利率變化情況 118
圖表 139  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 118
圖表 140  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司資產(chǎn)負(fù)債率變化情況 119
圖表 141  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 119
圖表 142  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司產(chǎn)權(quán)比率變化情況 119
圖表 143  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 120
圖表 144  近4年深圳市金業(yè)長(zhǎng)健新材料股份有限公司總資產(chǎn)周轉(zhuǎn)次數(shù)變化情況 120
圖表 145 TiC涂層的模型 123
圖表 146 CVD法的反應(yīng)類型和所沉積材料 125
圖表 147  CVD采用的加熱方式 126
圖表 148 開口體系CVD設(shè)備示意圖 126
圖表 149 幾種開口體系的反應(yīng)器示意圖 127
圖表 150 制備ZnSe單晶設(shè)備示意圖 128
圖表 151 非晶硅太陽(yáng)能電池結(jié)構(gòu)圖 132
圖表 152 非晶硅柔性太陽(yáng)能電池 133
圖表 153 大面積集成型疊層太陽(yáng)能電池 135
圖表 154 子電池示意圖 135
圖表 155 非晶硅太陽(yáng)電池的制備流程 136
圖表 156 2024-2030年我國(guó)高純硅烷在電子信息產(chǎn)品中應(yīng)用市場(chǎng)需求量的測(cè)算 141
圖表 157 2021-2024年全球半導(dǎo)體材料銷售分析 143
圖表 158 2020-2024年全球半導(dǎo)體材料銷售分析 145
圖表 159 2020-2024年世界半導(dǎo)體硅片出貨量分析 145
圖表 160 2019-2024年我國(guó)集成電路行業(yè)增長(zhǎng)情況 146
圖表 161 2024年我國(guó)集成電路出口情況 147
圖表 162 2024年集成電路產(chǎn)業(yè)內(nèi)銷產(chǎn)值增長(zhǎng)情況 147
圖表 163 2019-2024年我國(guó)集成電路固定資產(chǎn)投資增長(zhǎng)情況 148
圖表 164 2024年我國(guó)集成電路行業(yè)經(jīng)濟(jì)效益增長(zhǎng)情況 148
圖表 165 2020-2024年我國(guó)集成電路晶圓制造業(yè)發(fā)展規(guī)模分析 153
圖表 166 不同薄膜太陽(yáng)能電池研究應(yīng)用水平 164
圖表 167 現(xiàn)有各種太陽(yáng)能電池比較 171
圖表 168 中國(guó)大陸高世代面板線產(chǎn)能分布 184
圖表 169 中國(guó)大陸待投產(chǎn)高世代面板線 184
圖表 170 國(guó)家新型顯示產(chǎn)業(yè)政策 186
圖表 171 各省市新型顯示產(chǎn)業(yè)政策 187

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